每个物体都有正反两面,而纹影仪法就可以一次测出这两面的简单方法。
对物体外面描写的丈量平日采纳打仗与非打仗两类,在非打仗丈量中以光干预和光芒偏折法最为典型。干预法丈量的是光程差,而干预图上各点的光强与光程差是一对多的干系,不克不及依据一张干预图来完整肯定被测外面的描写,是以常在干预法中引入相移技巧,用多张干预图来盘算各点的相位,终极重构被测外面表面。缓变外面描写的丈量也是一个重要的丈量课题,一些晶体在其发展进程中常必要研讨和察看其浓度的变更和外面描写的微观变更。是以相移干预法不适合于丈量变更的外面描写。纹影仪法和莫尔测偏法因为丈量的是光芒偏折角,它不只包括了该点斜率的巨细信息,并且也包括了斜率标记信息,是以适合于丈量静态外面的描写,则需同时获得两偏向的外面梯度变更信息。而如前所述,无论是纹影法照样莫尔测偏法均不克不及同时获得两偏向的梯度信息。
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